氣相沉積爐日常使用方法有哪些呢　　氣相沉積爐主要用于半導體元器件及電力整流裝置的燒結工藝，可進行真空燒結、氣體保護燒結及常規燒結，是半導體專用設備系列中新穎的技術裝備，設計思路新穎，操作方便，結構緊湊，一臺設備即可完成多個工藝流程。也可用于其他領域的真空熱處理、真空釬焊等工藝，那么下面一起了解下爐子的使用必備技巧吧!　　氣相沉積爐在抽真空后氫氣保護的情況下，利用中頻感應加熱原理，使位于盤管內的鎢坩堝達到高溫，通過熱輻射傳導到工作中，適用于科研、軍工部門對鎢、鉬及其合金粉末進行成型燒結。安裝爐子的場地應符合真空衛生要求，周圍空氣清潔干燥，通風條件好，工作場所不易揚起灰塵等。它的日常使用方法：　　1、檢查控制柜內所有零部件及部件是否完好、完好。　　2、控制柜安裝固定在相應的基礎上。　　3、查看接線圖，參考電路圖，連接外接主回路和控制回路，可靠接地，保證接線無誤。　　4、檢查電器活動部位活動自如，無卡死現象。　　5、絕緣電阻不應小于2萬億歐姆。　　6、氣相沉積爐各閥門必須在關閉位置。　　7、控制電源開關置于斷開位置。　　8、手動調壓旋鈕逆時針轉動頭。　　9、將報警按鈕置于打開位置。　　10、平面圖完成設備循環冷卻水連接時，建議用戶在氣相沉積爐總進出水管處再加一層備用水(可用自來水)，防止循環水故障或斷電引起密封圈燃燒。

　　真空甩帶爐組成介紹 　　真空甩帶爐由真空室、甩帶裝置、坩堝自動升降裝置、氣路系統、機殼和熔煉電源等組成。 　　1、真空室：真空甩帶爐采用304板組焊而成并做表面處理，爐門上裝有大尺寸觀察窗，既滿足高真空要求，又便于觀察實驗情況。 　　2、甩帶裝置：真空甩帶爐采用伺服電機驅動，無極調速，密封采用磁流體密封裝置，銅棍拆卸方便。轉動平穩，噪音極低。 　　3、坩堝自動升降系統：采用氣動升降，帶延時裝置，可根據不同材料設備不同噴帶參數。 　　4、氣路系統：由電磁閥、壓力罐、手動閥門和管路組成。 　　5、機殼：結合國內外設備外觀經驗，根據自身設備特點，設計出合理機殼，外表噴塑處理。 　　6、熔煉電源：定制的熔煉電源，操作簡單，真空甩帶爐結構小巧。