氣相沉積爐的特點是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發的，但目前，不只應用于耐熱物質的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域。 　　設備特點在于：(1)在低溫下合成高熔點物質;(2)析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。

　　真空熔煉爐的原理及用途 　　真空熔煉爐是在真空條件下，利用中頻感應加熱原理，將金屬熔化的成套真空冶煉設備。適用于科研與生產單位對鎳基合金及特殊鋼、精密合金、高溫合金、有色金屬及其合金在真空或保護氣氛下進行熔煉和澆鑄。也可用做稀土金屬及貯氫材料的熔煉和澆鑄. 　　真空熔煉爐主要結構及組成：按結構形式可分為立式和臥式兩種系列。按出料方式立式系列又分為上出料、下出料、側出料三種形式;臥式系列又分為底出料及上出料兩種形式。 　　真空熔煉爐主要組成為：電爐本體(含熔煉裝置)、真空系統、進電裝置、水冷系統、液壓系統、氣動系統、電氣控制系統、中頻電源。 　　真空熔煉爐在熔煉過程中可在不破壞熔煉室真空情況下進行測溫、取樣、搗料、觀察、主補加料和合金成份調整等。與此同時可通過充氣閥充入惰性氣體以控制爐內的壓力和氣氛。澆鑄可澆一錠和多錠及裝入預熱保溫錠模、水冷錠模、砂型箱等以及進行離心澆鑄。按功能形式分為周期式及半連續式作業。